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機械設備60MW去PSG背拋光(guāng)刻蝕清(qīng)洗機
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- 蘇(sū)州晶洲裝備科技有限公(gōng)司
- 2013-05-28 16:47:29.0
- 全國
- 無
- 0
- 35
【詳細說明】
機械設備60MW去PSG背拋光刻
設備名稱:60MW去PSG背拋光刻蝕清洗機
技術優勢:
1.可觀的電池效率(lǜ)提升,根據不同的工(gōng)藝基礎,可提升0.2%-0.3%。
2.集擴散(sàn)後拋光和濕法刻蝕與一體(專利技術),無需額外設備投(tóu)入,無需增加工序。
3.無需使用NaOH, HNO3 H2SO4,更環保、更低的化學品耗用成本。
4.實現矽片浸入溶液(yè)傳輸並拋光(專利技術),無需“水(shuǐ)上漂”或“滾輪帶液”,無刻蝕線(xiàn),工(gōng)藝穩定,容易控製。
5.解決了(le)反應氣(qì)泡不易散發的難(nán)題,拋光(guāng)效果(guǒ)更好,碎片率(lǜ)更低。
6.專用拋光液,背麵拋光效果更(gèng)好(hǎo),容易控製,產量大,成本低(dī),廢水低汙染,易處理,節約廢水處理成本。
7.背(bèi)拋光技術(shù)與SE,背麵鈍化(AL2O3),背(bèi)接(jiē)觸技術(shù),兩次印刷,MWT等主流技(jì)術可疊加,兼容性好,提升背麵(miàn)技術革新空間。
8.技術便於實現係(xì)統集成或模塊化,方便(biàn)客戶選擇整機或改造。
9.國內第一個完全擁有自主知識產權、新型提效解決方案。
聯係人(rén):張翠平(píng) 女士
Q Q : 2378814156
電 話:0512-52992666
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