uv設備

光氧廢氣淨化法原理（lǐ）： 　　光氧廢氣裝置（一重破壞、分解，三重催化氧化） 破壞 　　采用高能C波段（僅次於切割不（bú）鏽鋼的激（jī）光，強於氬弧焊光源的數十倍（bèi）強度）在設備內，強裂解惡臭物質分子鏈，改（gǎi）變物質結構，將高分子汙染物質，裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。 催化氧（yǎng）化 　　1、o3強催化氧化劑進（jìn）行廢氣催化（huà）氧化，可有效地殺滅細菌（jun1），將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質。 　　2、催化劑塗層，在C波段激光刺激它產生活性，強化催化氧化作用。 　　3、在分解過（guò）程中產（chǎn）生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧，即活性氧，因遊離氧所攜正負電子（zǐ）不平衡所以需與（yǔ）氧分子（zǐ）結合，進而產生臭氧。UV O2→O- O*（活性氧（yǎng））O O2-O3（臭氧），眾所周知（zhī）臭氧（yǎng）對（duì）有機（jī）物具有極（jí）強（qiáng）的氧化作用，對惡臭氣體及其它剌激性異味有極強的清除效果。O3也為強催化氧（yǎng）化劑進行廢氣催化氧（yǎng）化，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核（hé）酸（DNA），再通過臭（chòu）氧進行氧化反應，徹底達到脫（tuō）臭及殺滅菌的目的。