晶洲（kzone）半導體濕製程清洗（xǐ）設備-有機去膠清洗台

一、 設備概況 A. 設備名稱：有機去膠清（qīng）洗台 B. 設備型（xíng）號：KZIC-T-OGSW-05B C. 整機尺寸：約1700mm（L）×1300mm(W)×1850mm(H)； D. 操作（zuò）台麵高度：900±20mm E. 被清洗工件規格：8 英寸圓片,25 片/籃（233mm*215mm*220mm）； F. 產能：1 籃/批，25 片/批； G. 節拍 ：0～99min 可調； H. 設備類型:半自動； 二、 設備構造 A. 晶洲（zhōu）（kzone）半導體濕製程清洗設備-有機去膠清洗台骨架材質：國產優質SUS304 骨架外包； B. 晶洲（zhōu）（kzone）半導（dǎo）體濕製程清洗設備-有機去（qù）膠清洗（xǐ）台外殼材質：2mm 厚SUS304 鏡麵板折彎焊接而（ér）成； C. 晶洲（kzone）半導（dǎo）體濕製程清洗設備-有機（jī）去膠清洗台台麵材質：2mm 厚SUS304 鏡麵（miàn）板 D. 晶洲（kzone）半導體濕製程清（qīng）洗設（shè）備-有機去膠清洗台去膠清洗槽：2mm 厚SUS316L 鏡麵板（bǎn）折彎焊接加電解拋光； E. 晶洲（kzone）半導體濕製程清（qīng）洗設（shè）備（bèi）-有（yǒu）機去膠清洗台QDR 槽：德國進口10mm PP-N 板（bǎn）熱熔焊（hàn）接而成； F. 晶洲（kzone）半導體濕製程清洗（xǐ）設備-有機去膠清（qīng）洗（xǐ）台管（guǎn）路：管路位於機台下（xià）/後部，管道采用SUS316 和PFA 管路相（xiàng）互配合使用； G. 晶洲（kzone）半導體濕製程清洗設備-有（yǒu）機去膠清洗台排風消防：根據流體學（xué）原理設計位於機台後上（shàng）部，並配有導流和消防自（zì）動關閉裝（zhuāng）置--如發現 著（zhe）火，機台會采集CO2 自動滅火器的信號（hào），自動關閉風量調節口（kǒu）蝶閥，有效阻止火災（zāi）蔓延； H. 工作照明（míng）：機台頂部配防腐防（fáng）爆照明； I. DI/N2 GUN：設備配美國-TEQCOM PTFE N2 Gun 和DIW Gun 各1 把（bǎ），置於工作設備兩側； J. 電器部分:采用觸摸屏+PLC 控製，電器元器件均采用Schneider&Omron； 蘇（sū）州晶洲裝備科（kē）技有限公司 SUZHOU KZONE EQUIPMENT TECHNOLOGY CO.,LTD. 地址：江蘇省常熟市辛莊光伏產業（yè）園光華環（huán）路32號 網址：www.kzonetech.com 電（diàn）話：0512-52992666-8010/8009 聯係人：張翠平 郵箱：sales@kzonetech.com QQ: 2378814156